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拖尾专用色谱柱

产品时间:2018-09-12

简要描述:

Pntulips® NT-C18 Plus 是公司设计用于解决碱性化合物峰形拖尾问题而开发的产品,采用独特的键合和封尾技术,大大减少了填料中的残余硅羟基,有效抑制液相色谱中的峰形拖尾,改善峰形、提高柱效。同时,NT-C18 Plus在色谱柱前内置一个Odreams®技术的保护柱,使用和维护更方便,色谱柱使用寿命更长。

免费咨询:029-82287779

发邮件给我们:48565437@qq.com

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NT-C18 Plus的性能优势

  • 独特的键合和封尾技术,碱性化合物峰形好
  • 柱效高、质量稳定性好
  • 内置Odreams®技术保护柱,使用寿命长
  • 主要用于碱性化合物等容易拖尾的样品分析

NT-C18 Plus设计原理

液相色谱分析中碱性化合物峰形拖尾是一种非常普遍、常见的现象,究其原因是由于色谱柱内填料中的残余硅羟基引起的。残余硅羟基是在填料键合的过程中产生,且由于立体效应无法完全消除,是硅胶基质色谱柱不可避免的负面影响。残余硅羟基具有弱酸性,在流动相中存在一定成都的电离,形成Si-O负离子,而带氨基的碱性化合物在流动相中易形成氨基正离子-H3N+-RH2N+-R2HN+,正负离子之间的相互吸引力较强,比液相分析中起主要作用的分子间作用力大得多,由于静电吸引力是近程作用力,只有相对较少的样品分子能与残余硅羟基的Si-O负离子相互作用,因此在色谱分离过程中,少量样品分子保留能力变强,出峰滞后,由此产生了谱图中的峰形拖尾。

残余硅羟基是引起样品峰形拖尾的主要原因。液相方法中通常通过调整流动相的pH、在流动相中加入三乙胺、辛烷磺酸钠、四丁基溴化铵等试剂用于改善峰形,其原理都是抑制残余硅羟基的Si-O负离子与氨基正离子的静电作用,从而达到改善峰形的目的。谱宁科技对NT-C18的设计原理亦是如此,通过从填料源头上消除残余硅羟基,阻碍二者的静电作用以改善拖尾,残余硅羟基没有了,自然也就不会与样品分子产生次级保留作用,因而抑制了峰形拖尾,改善峰形、提高柱效。

 

Pntulips® NT-C18 Plus性能参数

 

Pntulips® 郁金香系列键合相

孔径

比表面积

封尾

载碳量

pH范围

是否带内置保护柱

Pntulips® NT-C18 Plus

150Å

250m2/g

13%

1。59.5

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